Epitaxie von Metallaufdampfschichten

Unter Epitaxie versteht man das orientierte Aufwachsen dnner Schichten auf einer kristallinen Unterlage. Im Idealfall erreicht man einkristalline Schichten, welche die Kristallorientierung der Unterlage fortsetzen. Bei der Aufdampf methode mu man in der Regel erhhte Temperaturen der Unterlage whrend des Aufdampfprozesses anwenden, um Epitaxie zu erreichen. In vielen Fllen spielen auch Adsorptionsschichten auf den kristallinen Unterlagen eine Rolle. Zum Bei spiel wurde in der vorliegenden Arbeit die Epitaxie von Eisenschichten auf Stein salz-Spaltflchen durch den H 0-Partialdruck begnstigt. 2 Das praktische Interesse an einkristallinen Schichten beruht darauf, da deren physikalische Eigenschaften besser mit denen des kompakten Materials zu ver gleichen sind als polykristalline Schichten mit regelloser Kristallorientierung, die man beim Aufdampfen auf amorpher Unterlage (Glas oder Kunststoff-Folien) er hlt. In der vorliegenden Arbeit sind die Bedingungen untersucht, unter denen ein kristalline Wismut- und Eisen-Aufdampfschichten zu erhalten sind. Wismut zeigt wegen seiner Grenzstellung zwischen Metallen und Halbleitern einen relativ groen Hall-Effekt, der auerdem sehr anisotrop ist und in Abhngigkeit von der Orientierung das Vorzeichen wechseln kann. Den hohen Hall-Koeffizienten kann man zur Messung magnetischer Felder mit Hall-Sonden ausnutzen. Um den Ein flu einer abnehmenden Schichtdicke auf den Hall-Effekt zu untersuchen, war es erwnscht, auch Messungen an einkristallinen Schichten verschiedener Orien tierung durchzufhren. Ein positives Vorzeichen des Hall-Effektes ist zu erwarten, wenn die (lll)-Ebene parallel zur Schicht liegt und das transversale Magnetfeld in Richtung der trigonalen Achse zeigt. Derartig orientierteSchichten konnten durch Epitaxie auf Glimmer-Spaltflchen erhalten werden.